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疏水介孔二氧化硅膜的制备与表征**疏水介孔二氧化硅膜的制备及表征**
(一)疏水介孔二氧化硅膜的制备.制备方法1制备疏水介孔二氧化硅膜首先需要准备苯甲酸甲酯()及烷基TMCS N-甲基三氯化硅()作为基底和镂培养层溶液,利用电子放大器涂KH570布薄膜,通过高温沉积成形,然后再烧结六氟化铝凝胶,利用GreeiTs双层射线衍射()分析技术,测定薄膜的晶格结构和表面性质,X XRD获得疏水介孔二氧化硅膜表层模板的微观结构
2.模板有着独特的物理性质,如体积内能、抗拉强度和耐冲击强度等XRD的结果表明,表层模板集中在和这是因为二氧化硅原X=
0.37X=
0.75,子沉积在烧结层和底层微结构之间,从而形成介孔结构
(二)疏水介孔二氧化硅膜的表征粗糙度
1.探针电阻膜厚度测量技术是获得疏水介孔二氧化硅膜表面粗糙度参数的主要方法,采用测试仪测量膜层的厚度,然后对其形状和纹路进行分析来确定膜层的粗糙度相对湿度
2.疏水介孔二氧化硅膜的相对湿度可以通过改变溶液的湿度,加入不同物质的浓度,并用热学法()分析和改变表面粗糙度来提高膜层的DSC疏水性能盐类的吸附性
3.可通过溶有盐类的溶液对疏水介孔二氧化硅膜进行扫描电镜()测SEM试,来衡量盐类的吸附情况以及疏水性能。