CVD制程工艺及设备介绍课件

制程工艺及设备介CVD绍课件ppt本课程介绍了化学气相沉积（）的基本原理、工艺流程、设备、应用领CVD域，以及其优缺点背景介绍历史始于世纪初，在半导体工业中得到广泛应用如今，已经被广泛应用于化学、CVD20CVD光电、生物制药等领域概念是一种将外源性固体沉积在基体表面上（化学反应），形成薄膜、涂层或材料的技术CVD在气相状态下，通过将气体或蒸汽引入反应室，加热并分解，在基体表面上沉积出新的固体材料发展情况随着材料科学、微电子技术等领域的迅速发展，技术也得到了迅速发展目前，CVD CVD已经成为材料表面修饰以及化学分析中不可或缺的手段之一的定义和原理CVD定义原理将化学反应中产生的气体或蒸汽引入反应室中，在实现固体材料的合成的基本原理是将一些合CVD外界条件下促成化学反应与沉积过程，沉积出一层适的前体参与化学反应，生成相应的气体或粒子，薄膜的技术然后让这些气体或粒子在某些条件下准确地穿过反应室中的基质表面，并在表面反应并沉积，最终形成需要的固体制程工艺流程CVD选择前体物1根据沉积物的特性和应用，选择相应的前体物引入前体物2将选择的前体物，引入反应室并加热沉积物沉积3前体物分解产生的气体或凝结颗粒，在表面成核，并生长形成沉积物沉积物表面处理4通过物理和化学表面处理去除表面残留物，提高沉积物表面性能设备介绍CVD热反应设备电子感应耦合等离子体滚筒式设备CVD CVD设备CVD采用管式炉结构在高温情况下，可实现大面积、一次性，并CVD反应气体由管外注入，通过炉管主要由等离子体炉室、渗透源、且是一种快速的制备方法，被广加热反应产物，反应产物通过炉泵及阀门、感应线圈等部件组成泛应用于批量制备管被输出可实现高质量、大面积薄膜和复杂结构薄膜的制备应用领域CVD半导体器件光学玻璃生物材料制备晶体硅薄膜、多晶硅薄膜、生产光学玻璃，如镀膜、激光用于医用材料中，如医用金属、氮化物、氧化物、光刻薄膜等，膜、磨损性膜、光滤光膜、腐骨接合材料、纳米材料、表面常用于制造集成电路蚀性膜等，也可用于制造太阳改性等，还可以在生物领域中能电池板制备细胞培养箱等其它器械以及生物传感器优缺点CVD优点1制备的化学气相沉积薄膜均匀，成膜速度快，沉积时间短；能沉积较复杂的组成均匀和纯度高的薄膜缺点2设备复杂，维护麻烦；原料的寿命和成本较高；薄膜厚度难以控制总结与展望总结展望本课程介绍了的定义、工艺、设备、应用技术作为一种新兴技术，未来还有很大的CVD CVD领域、优缺点等我相信，通过本次课程，大发展空间和潜力希望能够有更多的技术革新，家对会有更深入的了解为推动相关产业的发展做出更大的贡献CVD。